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还是选择了日厂

据传三星早在一开始的 EUV 生产中并未使用防尘薄膜，从而导致了良率不高等一系列问题。对于更为复杂的 EUV 光刻技术而言，这样的结果也在预料之内。毕竟除了防尘外，保护均价 30 万美元的光罩也是防尘薄膜的任务之一。

为此，三星选择投资本土材料厂商 S&S Tech 和 FST，为的就是开发透光率 90% 以上的防尘薄膜，且已经有相关产品出货。然而业界一直有消息称三星并没有用到他们生产的防尘薄膜，因为其虽然透光率达标，但强度并不够，很有可能会进一步损坏光罩，致使对整个 EUV 光刻机进行清洁，同时还要停止产线。

尽管三星在研发和投资防尘薄膜上付出了不少努力，但从今年KISM2023 大会上三星电子研究员Young Seog Kang的分享来看，三星电子目前在 EUV 上用到的也是来自三井化学的光罩防尘膜，且三井化学是其wei一供应商。据了解，其所使用的防尘薄膜透光率已经达到了 90%，且下一步是提高到 94% 到 96%。

写在zui后

由此可以看出，先进工艺的制造并不只是依赖EUV 光刻机这一台机器即可，配套的所有设备、材料等都需要进一步升级。况且高 NA EUV 光刻机尚未投入使用，新的机器到位后，我们或许又将面临新一轮的良率爬坡。